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双管区熔提纯炉

双管区熔提纯炉

所属分类:区熔炉

产品型号:KQZ-20-11

更新时间:2026-09-04

描述:双管区熔提纯炉采用双温区高频感应加热结构,在真空或保护气氛条件下完成材料的区熔提纯与致匀处理。设备配置石英真空腔室、红外测温装置与 PLC 触摸屏控制系统,可直观观察物料加工过程。适用于金属、半导体、无机及有机材料的实验室提纯、单晶掺杂致匀、扩散率测试等科研试验。整机运行稳定,操作便捷,能够满足高校、科研院所及企业实验室的小批量材料研发需求。

详细信息

双管区熔提纯炉是面向材料科研领域的专用试验设备,依托双温区高频感应加热工艺,在真空或者惰性保护气氛环境中,对棒状试样开展区熔提纯、杂质均匀化掺杂等试验工作。设备配置两根独立加工管腔,可同步或者分别开展试验,提升科研试验效率。

双管区熔提纯炉炉体核心腔室选用透明石英材质,试验人员能够直接观察熔区移动、熔融状态等工艺现象,便于记录试验现象与调整工艺参数。配备红外测温组件,实时采集温区温度数据;搭配真空压力表,直观反馈腔体内压力状态,方便把控试验气氛条件。整机采用触摸屏加 PLC 一体化控制方式,加热启停、熔区移动速度、往复次数等工艺参数均可在界面设置,支持自动运行与手动调试两种模式,同时具备数据记录、历史曲线查询功能,便于留存试验数据。

设备冷态极限真空≤5Pa,额定温度区间 500‑1000℃,适配多种易氧化、对气氛敏感的试验材料。设备主要用于金属材料提纯、半导体单晶致匀处理,也可用于部分有机、无机化学材料的精制,还可完成试样焊接、液体扩散率测定等相关科研项目。

设备整体结构布局合理,各模块便于拆装维护,适配实验室研发场景。整机配备电气防护设计,降低操作风险。设备出厂后提供基础质保服务,后期可提供技术咨询,方便用户开展长期的材料研发工作。


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