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粉末成型钼带烧结炉

粉末成型钼带烧结炉

所属分类:真空钼丝烧结炉

产品型号:

更新时间:2026-10-23

描述:粉末成型钼带烧结炉是以钼带为加热元件的真空热压烧结设备,温度区间 0~1500℃,工作区规格 φ100×100mm,配备二级泵真空机组,可在真空或氩气等惰性保护气氛下作业。设备采用触摸屏操控,温控精度 ±1℃,均温性≤±5℃,适合粉末冶金、功能陶瓷、半导体材料、难熔合金的烧结与热处理,广泛用于高校实验室、新材料研发机构的试样制备与工艺研究。

详细信息

粉末成型钼带烧结炉是一款面向新材料研发的立式真空热压烧结设备,核心采用钼带作为发热元件,依托钼材耐高温、低放气的特性,在真空或惰性气氛环境下完成试样高温烧结、退火、除气等工艺,有效规避高温氧化、杂质污染问题,保障材料烧结纯度与成型质量。

设备额定温度范围 室温~1500℃,有效工作区域 φ100×100mm,控温精度可达 ±1℃,温场均温性控制在≤±5℃,可以满足多种材料不同烧结曲线的温控需求。真空系统采用二级泵组配置,搭配高密封性水冷腔体,腔体焊缝加工精密,密封性能稳定,抽气效率稳定,可根据工艺需求维持高真空环境,也可通入氩气等惰性气体形成保护气氛,适配多元工艺方案。 

粉末成型钼带烧结炉搭载悬臂式触摸屏控制系统,界面集成真空监测、温度曲线编辑、数据存储、历史记录调取、报警联锁等功能,操作直观便捷,支持全自动程序升温保温,降低人为操作偏差。内部电气布线布局规范,线路分区清晰,预留检修空间,便于后期维护排查,整机配置 AC380V±10%、50Hz 供电,设备总重约 600kg,底部带移动脚轮,转运摆放灵活,适配实验室固定工位使用。该设备主要用于粉末冶金、硬质合金、透明陶瓷、半导体材料、难熔金属合金等样品的烧结制备,也可用于金属材料真空退火、钎焊、脱气处理。相比石墨加热炉,钼带加热在中高温区间放气更少,不易对敏感材料造成碳污染,特别适合对碳含量敏感的无机陶瓷、电子功能材料研发。

 设备适配科研院所、新材料企业研发实验室,支持小批量试样烧结和新工艺摸索。配套保护与报警机制,出现超温、水压异常、真空故障时可及时联锁保护,提升长期连续运行的安全性。设备出厂提供配套技术指导,支持工艺调试,为各类高温材料实验提供稳定可靠的烧结解决方案。


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