真空石墨温场烧结炉是一款高温真空烧结设备，依托石墨温场实现高温加热，使用温度可达 2000℃，能够满足多种难烧结材料的高温制备需求。设备采用触摸屏搭配 PLC 一体化控制方案，各项工艺参数直观显示，可对升温、保温、真空、充气流程进行自动管控，操作便捷，运行稳定，适配长时间连续烧结工艺。
真空石墨温场烧结炉配置独立水冷机组，为炉体、密封件、真空组件提供持续冷却，保障高温工况下整机安全运行。真空腔规格 φ300×350mm，单工位工作区 φ80×80mm，极限真空优于 5×10⁻³Pa，可在真空环境或者充入惰性保护气氛下工作，有效避免样品在高温下氧化、挥发，保障烧结成品纯度与性能一致性。整机电源为 380V 三相 50Hz 供电，总重 800Kg，结构紧凑，便于实验室布局安放。
炉体密封结构焊接精细，焊缝紧密，拥有良好的密封性能，维持稳定真空环境；配套相应的水冷管路系统，各支路独立可控，散热均匀，降低高温对电控、真空元器件的损耗。该设备适用范围广泛，可用于碳化硅、氧化锆、氧化铝等无机陶瓷材料，以及硬质合金等金属材料的烧结制备，也支持稀土元素及其氧化物提纯、蓝宝石退火等工艺。
设备适配大专院校、科研单位的研发实验以及小批量中试生产，为新材料研发提供稳定可靠的高温烧结条件。厂家配套售后保障，可提供技术支持，降低设备使用与维护难度，是新材料实验室高温烧结环节的优选设备。
我们提供售后支持，到货之后一周内进行调试，尽早投入实验使用。一般问题2小时内在线答疑，需线下处理的问题，在72小时内安排售后人员上门进行处理。
